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第133章光子载流晶片成功问世(第4页)

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李亦辰盯著掌心里这枚晶片。

呼吸在那一瞬间停住了。

胸腔里那颗心臟,跳得又重又慢,每一次搏动都像撞在肋骨上。

成了。

他做到了。

用完全不同於现有技术路线的工艺,绕开光刻机,造出了这个世界上第一枚光子载流晶片。

零点五纳米。

他捏著那枚晶片,拇指指腹在光滑的表面轻轻摩挲了一下。

“灵儿。”

“在呢,哥哥。”

“测试一下这枚晶片的性能。”

“好的哥哥。”

控制台屏幕上,数据流再次开始滚动。

灵儿调用三十楼內所有可用的测试设备——高精度示波器、频谱分析仪、热成像仪、功耗测试平台——全功率运转。

一分钟后。

测试结果弹了出来。

密密麻麻的参数列表,每一项后面都跟著一个数字,以及一个夸张到离谱的对比百分比。

算力:对比目前最先进的1.6纳米硅基晶片,提升百分之一千二百。

功耗:降低百分之九十五。

发热量:室温环境下满载运行一小时,温升不超过零点五摄氏度。

良品率:百分之八十。

李亦辰一条一条往下看。

每看一条,嘴角的弧度就上扬一分。

到最后,他整个人靠在椅背上,长长地、缓缓地吐出一口气。

成了。

真的成了。

目前世界上最先进的晶片,也就做到了一点六纳米。

那已经是光刻机和现有半导体物理理论的极限,除非另闢蹊径,否则不可能再突破。

而现在——

他手里的这枚晶片,线宽零点五纳米。

性能碾压十倍不止。

最关键的是——这玩意儿,没有光刻机,没有euv,没有asml。

用的是完全不同的材料体系,完全不同的工艺路线。

就算把这枚晶片扔给台积电、扔给英特尔、扔给三星最顶尖的实验室,让他们拆开来,用电子显微镜一寸一寸扫描,用能谱分析仪一点一点化验——

没有他脑子里那套完整的技术图谱,没有那些特种稀土材料的精確配比,没有离子束刻蚀的电磁场控制参数……

他们就是研究个三五年,也仿製不出来。

李亦辰把那枚晶片举到眼前,对著无影灯的光。

晶片表面反射出一小片冷白的光斑,像一颗微型的星星。

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