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第294章 从女媧石到国產光刻机图纸(第1页)

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【大夏·京城·西山大院“一號楼”

地下实验室】

1986年9月5日。

距离陆念正式被特聘为中科院首席顾问,已经过去了整整一周。

这一周里,西山大院的门槛差点被中科院各个领域的顶尖专家踏破。

大夏“863高技术研究发展计划”

的七大领域负责人们,就像是发现了稀世宝藏的老农,天天抱著厚厚的图纸和数据来找这位五岁的小祖宗“取经”

而陆念走马上任后烧起的第一把火,直接对准了863计划中最核心、最棘手、也是未来被西方卡脖子卡得最惨的领域——信息技术与微电子半导体。

更准確地说,是製造晶片的终极母机:光刻机。

……

地下三层的绝密实验室內。

巨大的全息绘图板前,沈晏州正顶著两个浓重的黑眼圈,双手在键盘上疯狂敲击,將陆念口述的数据转化为標准的工程cad图纸。

这位名震暗网的顶尖极客,此刻彻底沦为了五岁神童的“打字员”

“念念,你確定这个光源波长没算错吗?”

沈晏州看著屏幕上刚刚渲染出的一套极其复杂的反射光路图,咽了一口唾沫,声音里带著一丝抑制不住的颤抖。

“没算错呀,沈爸爸。”

陆念穿著一件印著小鸭子的围裙,手里拿著一根吃了一半的棒棒糖,踩在小板凳上指点江山,

“现在美国和日本的半导体公司,用的都是汞灯產生的紫外光源(g线和i线),波长在三百纳米以上。

这种光刻机,撑死了只能刻出微米级別的晶片迴路,太落后啦!”

“我要做的,是极紫外线(euv)光刻机!

波长只有十三点五纳米!”

听到“euv”

这三个英文字母,一直坐在旁边旁听的几位微电子所的老专家,手里的茶杯都差点端不稳了。

在1986年,全球的光刻机霸主还是美国的gca和日本的尼康。

即使是他们,也还在光学衍射的泥潭里苦苦挣扎。

至於euv技术,在西方学界还仅仅停留在科幻小说和毫无头绪的理论猜想阶段!

因为想要產生极紫外光,需要用高能雷射去轰击不断滴落的液態锡滴,使其瞬间变成等离子体。

而这种等离子体温度高达几十万度,没有任何常规材料能够约束它!

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