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温寧克刚刚举起自己的手，屏幕上跳出参数：
波长13.5纳米。
数值孔径0.33。
套刻精度优於3纳米。
晶圆吞吐量每小时140片。
“这不是ppt，而是真正的量產，第一台量產型euv光刻机，將於今年年底交付。”
全场起立鼓掌。
这个消息犹如一道曙光，瞬间传遍了全球。
euv光刻机的突破意味著晶片製造终於可以摆脱多重曝光的痛苦。
以前用193纳米波长的深紫外光刻10纳米以下的晶片，需要反覆曝光四次、五次甚至六次。
良率低、成本高、周期长。
而euv直接用13.5纳米的极紫外光，一次曝光就能刻出7纳米甚至更精密的电路。
这是半导体行业的圣杯，如今阿斯迈尔拿到了它
虽然不知道华星的7nm是怎样实现的，但如今阿斯麦尔有了更好的选择。
消息传到首尔，李在鎔一个人在办公室里坐了很久。
euv突破，对s-t来说不是好消息。
至少，不是他们想听到的那种好消息。
因为这意味著，先进位程的竞爭將从“抱团取暖”
重新回到“单打独斗”
的轨道。
谁能买到第一台euv，谁就能在7纳米节点上抢跑。
而s-t內部的资源爭夺战已经打得不可开交。
如果euv的订单只能满足一家，这或许是他们分家的一个关键点。
李在荣不敢想像那个答案揭晓时的场面。
果然，第二天的董事会上，s-t彻底失控了。
三桑系提出：三星在euv研发上投入了超过三十亿欧元，是阿斯麦的核心合作伙伴之一，第一台euv应该优先分配给原三桑的產线。
也就是说这台光刻机，必须要运到泡菜国。
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台积电系反驳：台积电的先进封装技术全球第一，euv必须搭配先进封装才能发挥全部威力，第一台euv应该放在台岛。
双方爭执不下。
李在荣试图调停，表示这个事情也不是不可以协商，但话还没说完，就被台积电的独立董事打断了。
“李会长，恕我直言。”
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