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国家超导约束聚能研究所。
光源实验室。
距上次euv光源功率实现35w稳定输出功率后，后续的各项验证性实验，也是进展颇为顺利。
不过，李阳明白。
要想搞出最先进的光刻机，且满足以后更多的研究，单单是这个成绩，还是远远不够的。
所以，在確定35w的输出功率没有任何问题后，他便组织团队的成员，继续开展功率提升任务。
此刻。
实验室里，各项任务正如火如荼的进行著。
研究员们一边紧张的进行实验，一边实时匯报情况。
“报告！
功率提升至36w，束流散射角超標！”
“37w！
散射角持续扩大，聚焦稳定性骤降！”
“不行，38w无法维持，束形完全发散！”
隨著功率的提升，实验开始失控，研究员的声音，多了一抹紧张与不安。
而此时，屏幕上代表粒子束流的红色光点原本凝聚如针，此刻却像被无形之手揉碎，扩散成模糊的光斑。
“將数据投屏到大屏幕。”
曹启东吩咐道。
团队的研究员，立刻把数据同步投射在中央大屏。
高倍电子显微镜下，覆盖在关键光学元件表面的石墨烯涂层，其完美的六角晶格在持续的高能粒子轰击下，正发生微小的扭曲与错位。
“晶格畸变！”
曹启东指著分析图，语气沉重。
“粒子束流能量超过閾值，轰击导致石墨烯局部晶格热应力失衡，几何结构发生纳米级改变。”
“这直接破坏了它对入射粒子的精確导向能力，散射角自然失控。”
李阳站在控制台前，目光扫过不断跳动的失败数据和显微镜下的畸变图像。
他沉默了几秒，果断下令。
“先暂停功率提升计划，立刻转向微观形变研究。”
“不解决这个，增量毫无意义。”
功率提升失败这个结果，早在他的预料之中。
国际社会上，还没有这样的先例，更没有类似的经验可循。
他们不仅无法摸著石头过河，还需要自己一步步的试错探究。
所以，李阳並没有太多挫败感。
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