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龙国。
破壁专项指挥部。
李阳坐镇指挥部第一负责人的位置，同样面临艰巨的挑战。
全国顶尖的力量被动员起来，攻关euv光刻机的核心子系统。
然而！
在光源这一最关键的部分，团队遇到了硬骨头。
採用主流雷射等离子体（lpp）方案的实验小组遇到了大麻烦。
他们无法在提升雷射功率以达到euv生成閾值的同时，保证光学元件的使用寿命和等离子体靶材的稳定性。
几次实验下来，昂贵的镜片被烧蚀，產生的euv光功率也极不稳定，远达不到要求。
“李工，asml的路线，我们短时间內恐怕很难完全复製。”
“他们的技术积累太深了，特別是那个锡滴靶材的產生和雷射轰击的同步控制，精度要求变態的高。”
光源小组的负责人语气沉重地向李阳匯报，脸色有些颓然。
原本以为，在李阳的带领下，凭藉著他们自身丰富的经验，这项技术可以轻鬆突破。
但现在看来，他们还是有些小瞧这种高精度的光刻机了。
这让自信满满的他们，遭受了不小的打击。
项目刚进展不久，就遇到了第一个重大瓶颈，指挥部里的气氛有些凝重。
如果光源问题无法解决，后续的所有工作都无从谈起。
李阳静静地听著匯报，翻看著失败的实验数据和损伤元件的照片。
他没有指责，而是陷入了沉思。
良久，他抬起头，目光扫过在场的专家。
“我们是不是陷入了一个思维定式？”
他缓缓开口。
“为什么一定要完全沿著asml走过的路再走一遍？”
“他们用lpp成功了，不代表这是唯一的路径，也不一定是最適合我们基础的路径。”
他走到白板前，画下了几个简单的示意图。
“我们最大的优势是什么？”
“是我们在大型尖端工程装置上积累的经验，尤其是对高温等离子体的理解和控制能力。”
“lpp路线本质也是製造和控制等离子体，来產生euv光。”
“我们能不能跳出『模仿的圈子，利用我们在雷射惯性约束聚变或者磁约束聚变中对於等离子体物理的深刻理解，探索一条不同的技术路径？”
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