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第十二章 实验室显威折服众人(第3页)

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这个男人,到底还有多少惊喜是她不知道的?

“林……林先生,”

苏文山的声音都带着一丝颤抖,“您……您简直是神了!

这些问题困扰我们很久了!”

林凡摆摆手:“只是一些细节问题而已。

苏总,看完了这些,对于解决你们核心的专利壁垒问题,我已经有更清晰的想法了。”

他走到一块白板前,再次拿起笔,这一次,他没有画复杂的分子结构,而是直接写下了一串看似简单的化学方程式和几个关键的工艺参数调整建议。

“M公司的核心专利在于Y离子注入技术本身,以及由此带来的特定晶体结构。

我们不必执着于完全复制或超越它的性能,只需要在满足产品基本要求的前提下,巧妙地‘绕’过去。”

“我的建议是,放弃高成本的Y离子注入,回归到相对成熟的PVD物理气相沉积技术。

但是,在沉积过程中,引入一种复合靶材,并且精确控制溅射时的等离子体能量和磁场分布……”

林凡一边写,一边解释,语速不快,但每一个字都蕴含着极高的技术含量。

他提出的方案,核心思想就是利用更廉价、更成熟的PVD技术,通过对靶材成分和工艺参数的精妙调控,模拟出接近Y离子注入效果的薄膜特性,从而在功能上替代,但在技术路径和最终的微观结构上,又与M公司的专利完全不同!

这是一种典型的“降维打击”

思路!

看似是技术的“倒退”

,实则是利用对基础原理更深刻的理解,实现了“弯道超车”

当林凡放下笔,整个实验室鸦雀无声。

苏文山和所有的工程师都呆呆地看着白板上的内容,大脑飞速运转,越想越觉得这个方案……可行!

不仅可行,而且……简直是天才般的构想!

成本低!

工艺成熟!

完美规避专利!

性能虽然可能比M公司的顶级技术略逊一筹,但绝对满足市场需求,甚至比他们之前苦苦挣扎的方案还要好!

“通了!

通了!

我怎么就没想到!”

一位老工程师激动地拍着脑袋。

“这个复合靶材的配比……太精妙了!

简直是艺术!”

“等离子体能量和磁场控制……这个参数要求极高,但理论上是可行的!”

工程师们瞬间沸腾了,围着白板激烈地讨论起来,看向林凡的眼神充满了狂热的崇拜!

苏文山激动得嘴唇都在哆嗦,他快步走到林凡面前,紧紧握住他的手:“林先生!

大恩不言谢!

您……您简直是我们苏家的救命恩人啊!”

这一刻,苏文山心中所有的疑虑和谨慎都烟消云散,只剩下无尽的感激和庆幸!

林凡感受着苏文山手掌的温度和力量,微微一笑。

他知道,自己已经成功地在苏家,乃至海城,迈出了至关重要的一步。

而这,仅仅是个开始。

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